99,95% -99,99% renhet tantalplåtplatta med lägsta pris tantalark
| Tjocklek (mm) | Bredd (mm) | Längd (mm) | |
| Foliebit/rullar | 0.01-0.1 | 5-200 | 10-1000/>1000 |
| Ark | 0.1-1 | 100- 500 | 100-1000 |
| tallrik | Större än eller lika med 1 | 100-500 | 100-1000 |
Tantalplatta
Tantalums unika atomstruktur ger sina plattor med anmärkningsvärda egenskaper:
Korrosionsmotstånd: Tantal bildar ett passivt oxidskikt (ta₂o₅) när det utsätts för luft eller fukt, vilket gör den mycket resistent mot syror (inklusive saltsyra och svavelsyra), alkalis och organiska lösningsmedel - till och med vid förhöjda temperaturer. Den här egenskapen är oöverträffad av de flesta metaller, förutom för guld och platina.
Högsmältpunkt: Med en smältpunkt på ~ 3 017 grader (5 463 grader F), behåller tantalplattan strukturell integritet i extrem värme, idealisk för hög - temperaturmiljöer som jetmotorkomponenter eller kärnreaktorer.
Mekanisk styrka: Tantalumplatta uppvisar utmärkt draghållfasthet (upp till 800 MPa i glödgad form) och duktilitet, vilket gör att den kan bearbetas i komplexa former utan sprickor.
Elektrisk konduktivitet: Det är en bra ledare av elektricitet (konduktivitet ~ 10% koppar) och används ofta i elektroniska applikationer där korrosionsbeständighet prioriteras framför konduktivitet.
Att producera en hög - kvalitet tantalplattan involverar flera steg
Råmaterialrening: Tantalmalm bearbetas först för att extrahera tantalpentoxid (ta₂o₅), vilket sedan reduceras med användning av smält natrium eller magnesium i ett vakuum för att producera tantalpulver.
Konsolidering: Pulvret komprimeras till göt via pulvermetallurgi eller elektron - strålsmältning (EBM), en process som eliminerar föroreningar och säkerställer enhetlighet.
Rullande och glödgning: Göt uppvärms och rullas i tunna plattor. Mellanglödning (uppvärmning för att lindra stress) upprepas för att uppnå önskad tjocklek och flexibilitet.
