Beskrivning

Tekniska parametrar

Definiera renhet i tantalmetalldeglar

Ren tantalmetalldeglarär behållare helt tillverkade av ultraraffinerad tantalmetall, med föroreningsnivåer minimerade för att säkerställa noll kontaminering i de mest krävande industriella processerna vid hög temperatur.

"Ren" betyder i det här sammanhanget vanligtvis tantalinnehåll Större än eller lika med 99,95 %, och når ofta 99,98–99,99 % för kritiska applikationer. Spårföroreningar som Fe, Ni, Cr, O, N och C är begränsade till bara några få ppm genom processer inklusive dubbel vakuumbågomsmältning (VAR), elektronstrålesmältning (EBM) och zonraffinering. Denna grad avTantal metallrenhet garanterar att degeln i sig inte förändrar det bearbetade materialets kemi eller mikrostruktur.

Förorening	Maxnivå (ppm) – 99,99 % Betyg	Effekt om den överskrids
Fe	Mindre än eller lika med 5	Inklusionsbildning, förändrad legeringshållfasthet
Ni	Mindre än eller lika med 3	Minskad korrosionsbeständighet hos smältan
O	Mindre än eller lika med 5	Sprödhet vid hög temperatur
C	Mindre än eller lika med 10	Oönskad karbidutfällning

Industriella roller för rena tantalmetalldeglar

Halvledarkristalltillväxt– Inneslutning av smältor med hög renhet för SiC- eller GaN-boule, där även föroreningar på ppb-nivå förstör waferkvaliteten.

Hantering av kärnmaterial– Säker smältning och gjutning av aktinidlegeringar med minimala neutronabsorberande föroreningar.

Extraktion av sällsynta jordartsmetaller – Elektrolytisk eller metallotermisk minskning av fluorid/kloridsmältan, bevarar magnetisk prestanda hos Nd, Dy, Tb.

Deglarna bibehåller strukturell stabilitet över 2400 grader i inerta atmosfärer, med försumbart ångtryck och utmärkt motståndskraft mot mineralsyror och smälta oxider.

Prestandafördelar med rena tantalmetalldeglar

Deras ultrarena inre yta eliminerar kärnbildningsställen för falska faser, vilket möjliggör förutsägbar stelning. Exceptionellt krypmotstånd (på grund av fina, omkristalliserade korn) tillåter belastningar på ~10 MPa vid 2000 grader. Släta ytbehandlingar (Ra mindre än eller lika med 0,4 µm) underlättar rengöring och förhindrar smältvidhäftning, vilket gör dem idealiska för helautomatiserade produktionslinjer med hög genomströmning i legerings- och elektronikfabriker för flygindustrin.

Customized 99.95% Pure Melting Tantalum crucible from ZhenAn

vem väljer oss?

Våra produktfördelar
Hög renhet
Renhetsnivåer på 99,995%-99,997%, med exceptionellt låga föroreningar som Pd och Cd.
Överlägsen trådkvalitet
Ledningarna lindas av jämnt i kontinuerliga längder, vilket säkerställer sömlös drift.
Slät yta utan oljerester.
Inga trådmatningsproblem
Fri från defekter som partiklar, trassliga trådar, knutar, böjar, brott, oxidation, spraybågsfel eller igensatta munstycken.
Gratis testrapporter
Vi tillhandahåller kostnadsfria testrapporter om sprayskikttjocklek, porositet, bindningsstyrka och beläggningsundersökningar för kondensatorer och termiskt sprutade zinkbeläggningar.

en enda-lösning

professionellt team

hög kvalitet

Populära Taggar: ren tantal metalldeglar, Kina ren tantal metalldeglar tillverkare, leverantörer, fabrik, Gjutna och smidda tantalmål, Tantal i hög renhet, Polerad tantalstång med hög renhet, Polerad tantalplatta, Tantalspiral, Tantalmetall

Ren tantalmetalldeglar

Definiera renhet i tantalmetalldeglar

​

Industriella roller för rena tantalmetalldeglar

​

Prestandafördelar med rena tantalmetalldeglar​

Prestandafördelar med rena tantalmetalldeglar