Hög renhet Nb Sputtering Target

Hög renhet Nb Sputtering Target

Form: Tallrik
Yta: Polerad/Ljus
Färg: Grå
Density: >9.3--9.5g/cm3(sintrad), 9.7--9.9g/cm3(HIP)
Skicka förfrågan
Beskrivning
Tekniska parametrar
Niobmål produktbeskrivning

 

Produktbeskrivning
Niob-roterande mål tillverkas genom vakuumsmältning eller kallsprutningsprocess, och kan produceras med en maximal längd på 4000 mm, och tjockleken kan anpassas enligt kundens krav.
Platt mål av niob tillverkas genom vakuumsmältningsprocess och kan tillverkas med en maximal längd på 2500 mm och en maximal bredd på 400 mm. Storleken och renheten kan anpassas efter kundens krav.

Tekniskt kategorinummer
Renhet: 99.95-99.99 %
Användningsområden: högkonduktivitet och andra beläggningsindustrier, tunnfilmssolindustri, lågstrålningsglasindustri, plattskärmsindustri, optisk beläggningsindustri, verktygs- och dekorativ beläggningsindustri.

 

Förpackning och egenskaper hos niobmål

 

Stämpla Kemisk sammansättning: PPM, högst
Fe Si Mo W Ti Hp Ta Ni O C H N (Nb+Ta)% Större än eller lika med
Nb3 20 20 80 100 10 10 1000 20 250 100 15 150 99.9%
Nb2 10 10 50 50 5 5 500 10 200 50 10 100 99.95%
Nb1 5 5 10 20 1 1 100 1 100 30 10 50 99.99%

 

Zhenan kvalitetsservice

 

1. Ge dig det mest konkurrenskraftiga priset

2. Ge dig relevant professionell produktkonsultation

3. Du kan besöka vår fabrik personligen

 

Besök av köpare och företagsmiljöbilder

 

High Purity Niobium Sputtering Target

pure nb metal sputtering target

Vår fabrik är professionell och pålitlig, vi arbetar hårt och behandlar kunderna tålmodigt, vilket gör att kunderna verkligen kan uppleva en ny tjänst som är lugnande, omtänksam och bekymmersfri.

Populära Taggar: hög renhet nb sputtering mål, Kina hög renhet nb sputtering mål tillverkare, leverantörer, fabrik, niobförsörjningskapacitet, niobstabilitet, niob niobat, niob bulkorder, Niobledtid, niobillämpning